一、磁控濺射鍍膜設備簡介與優點有哪些？

控濺射原理電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞，電離出大量的氬離子和電子，電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材，濺射出大量的靶材原子，呈中性的靶原子（或分子）沉積在基片上成膜，而二次電子在加速飛翔基材時，在磁場的洛侖茲力影響之下，呈現螺旋線狀與擺線的復合形式在靶表面做一系列圓周運動，該電子不但運動路徑長，還是被電磁場理論束博在靠近靶面的等離子體區域范圍內，于此區內電離出大量的Ar，對靶材進行轟擊，所以說磁控濺射鍍膜設備的沉積速率高。

從而出現了磁控濺射鍍膜這個設備，該設備集控濺射與離子鍍膜技術為一體，對提高顏色一致性，沉積速率機化合物成分的穩定性提供了解決方案。根據不同的產品需求，可選配加熱系統，偏壓系統、離化系統等裝置，其靶位分布可靈活調整，膜層均勻性優越，配備不同的靶材，可鍍制出性能更好的復合膜層。設備所鍍制的膜層具有復合力強，致密性強的優點，可有效提高產品的鹽霧性、耐磨性及產品表面硬度，滿足了高性能膜層制備的需求。

該設備的適用材料豐富，可用于不銹鋼水鍍五金件/塑膠件、玻璃、陶瓷等材質。該系列設備主要用于電子產品五金件、高檔鐘表、高檔首飾和品牌皮具的五金件等豐富產品。

磁控濺射原理:電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片。氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出...

二、真空鍍膜設備膜厚控制器的作用

提高生產效率和可靠性。真空鍍膜是一種產生薄膜材料的技術，指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發并凝結于鍍件（金屬、半導體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法，設備膜厚控制器的作用是提高生產效率和可靠性，從而減輕鍍膜人員的勞動強度和提高成品率。

三、一套纏繞膜生產設備大概多少錢？產量是多少？誰有纏繞膜生產機器的流程視頻？謝謝。專業人士請教。。謝謝

拉伸膜設備分一米，一米五，兩米寬的。市場上的拉伸膜寬度常見的主要是 500mm 或者 450mm。那么一米的設備就可以一次性出兩卷。參考價格在20多萬左右。

最主要是根據您的產量要求來選擇不同的機器型號。比如您一天想做6噸，或者更多。

20-30W 膜寬1.2左右,可分切；產量12H 1,5他T

我有一臺處理保證生產出合格產品

四、生產手機鋼化膜需要哪些設備啊

現在的手機鋼化玻璃膜生產，生產一般都是分開的。

1、現在的鋼化玻璃一般都是用進口的鋼化玻璃，玻璃是國外做好發過來的

2、到國內后再作精雕，就是把玻璃雕刻成成品形狀

3、再進行電鍍，或者表面涂防指紋等，有些直接跳過這個步驟

4、再進行鋼化玻璃和AB膠貼合，現在的手機膜生產廠家都是在做這一步，一貼合包裝一下就可以賣了。

機械設備一般用精雕機、電鍍設備以及貼合機，大概就是這幾臺設備。

五、真空鍍膜設備的介紹

真空鍍膜設備，主要指一類需要在較高真空度下進行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空離子蒸發，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發和濺射兩種。