單晶硅的污染程度和方面:
廢氣：主要為正常生產(chǎn)時廢氣處理工序尾氣、產(chǎn)品后處理和硅芯制備工序酸性廢氣等，主要廢氣污染物為HCl、NOx、氯硅烷、HF等。
廢水：主要為正常生產(chǎn)時產(chǎn)品后處理和硅芯制備工序水洗廢水、裝置區(qū)設(shè)備/地坪沖洗水，以及循環(huán)水、脫鹽水系統(tǒng)排出的假定清凈下水。主要廢水污染物為SS、COD、鹽等。
固廢：主要固體廢棄物為原料制備和SiHCl3合成工序產(chǎn)生的硅粉、工藝廢料處理工序產(chǎn)生的NaCl和SiO2固體廢物、酸洗廢液處理工序產(chǎn)生的Ca(NO3)2/CaF2固體廢物。
噪聲：主要產(chǎn)噪設(shè)備為機泵、壓縮機和放空管。



擴展資料：
廢氣處理：
一般用10%NaOH溶液洗滌，廢氣中的氯硅烷（以SiHCl3為例）和與NaOH發(fā)生反應(yīng)而被除去。含有NaCl、Na2SiO3的出塔底洗滌液用泵送入工藝廢料處理工序。
廢液處理：
一般分離提純工序殘液主要含有四氯化硅和聚氯硅烷化合物的液體以及裝置停車放凈的氯硅烷液體加入石灰乳液中和廢液中的氯硅烷等和而被轉(zhuǎn)化成無害的物質(zhì)。經(jīng)過規(guī)定時間的處理，用泵從槽底抽出含H4SiO4、CaCl2、H4SiO4、Na2SiO3的液體，送往工藝廢料處理工序。
廢料處理：
1、類廢液處理：
來自合成工序的廢酸、液氯汽化工序的廢堿、廢氣殘液處理工序和廢硅粉處理的廢液等在此工序進行混合、中和后，經(jīng)過壓濾機過濾。濾渣（主要為SiO2、NaCl等）送渣廠堆埋。濾液主要為NaCl溶液，進行蒸發(fā)、濃縮和結(jié)晶。蒸發(fā)冷凝液循環(huán)利用（配置NaOH溶液），結(jié)晶固體氯化鈉等外售或填埋。
2、類廢液處理：
來自硅芯制備工序和產(chǎn)品整理工序的廢氫氟酸和廢硝酸，用堿液中和，生成的氟化鈉和硝酸鈉溶液，進行蒸發(fā)、濃縮和結(jié)晶。蒸發(fā)冷凝液循環(huán)利用（配置NaOH溶液），結(jié)晶固體氟化鈣和硝酸鈉等外售或填埋。
參考資料：
百度百科-單晶硅的污染程度和方面