光催化技術，就是在光的作用下進行的化學反應。
光化學及光催化氧化法是目前研究較多的一項高級氧化技術。
光催化氧化技術利用光激發氧化將O2、H2O2等氧化劑與光輻射相結合。所用光主要為紫外光，包括uv-H2O2、uv-O2等工藝，可以用于處理污水中CCl4、多氯聯苯等難降解物質。
另外，在有紫外光的Fenton體系中，紫外光與鐵離子之間存在著協同效應，使H2O2分解產生羥基自由基的速率大大加快，促進有機物的氧化去除。



擴展資料
原理
當能量高于半導體禁帶寬度的光子照射半導體時，半導體的價帶電子發生帶間躍遷，從價帶躍遷到導帶，從而產生帶正電荷的光致空穴和帶負電荷的光生電子。光致空穴的強氧化能力和光生電子的還原能力導致半導體光催化劑引發一系列光催化反應的發生。
半導體光催化氧化的羥基自由基反應機理，得到大多數學者的認同。
發展史
1972 年，Fujishima和 Honda在n—型半導體TiO2電極上發現了光催化裂解水反應，在Nature上發表了“Electrochemical photolysis of water at a semiconductor electrode”，揭開了多相光催化新時代的序幕。
進入了90 年代，隨著納米技術的興起和光催化技術在環境保護、衛生保健、有機合成等方面應用研究的發展迅速，納米量級的光催化劑的研究，已經成為國際上最活躍的研究領域之一。
參考資料：百度百科-光催化氧化技術