等離子噴涂設(shè)備的發(fā)展趨勢(shì)是什么?
??在噴涂工藝設(shè)備方面,在普通等離子噴槍的基礎(chǔ)上,發(fā)展了超聲速等離子噴槍和三 陰極等離子噴槍等,提高了噴涂粒子的熔化程度、速度;應(yīng)用低壓等離子噴涂和用液料的等離子噴涂等,可以控制涂層的相結(jié)構(gòu)和晶粒尺寸;而微弧等離子噴涂使等離子噴涂 設(shè)備向小型化發(fā)展。
??超聲速等離子弧噴涂中通過氣體的旋流穩(wěn)定作用與收縮作用得到穩(wěn)定集聚的高熱 焓、超高速等離子體焰流,其弧壓高達(dá)200 -400V,電流400 -500A,噴嘴噴射出的等 離子射流溫度達(dá)到25001以上,焰流速度超過3600mA,噴涂顆粒速度可達(dá)500m/S以 上。
??而且工藝參數(shù)可通過噴涂功率、工作電壓、工作電流、主氣(Ar)、次氣(N2)的 壓力和流量、噴涂距離等加以控制。超聲速等離子弧噴涂功率高,氣流量大,速度極 高,具有極高的噴涂效率,而且等離子弧不發(fā)散,熱焓高,使涂層質(zhì)量明顯優(yōu)于一般等 離子噴涂,而且非常適用于高熔點(diǎn)陶瓷材料的噴涂。
??超聲速等離子噴涂技術(shù)采用非轉(zhuǎn)移 型等離子弧與高速氣流混合時(shí),出現(xiàn)的“擴(kuò)展弧”得到穩(wěn)定聚集的超聲速等離子焰流。 它保留了普通空氣等離子噴涂的優(yōu)點(diǎn),而且噴涂速度有了顯著的提高。
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