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#P#半導體廠務制程排氣系統
半導體廠務系統，大都可區分儀電(69KV變電所及11.4KV變電站系統、480 / 277 / 120V系統、發電機系統、PC / CV系統、空壓機系統、FMCS系統、電話系統、門禁系統)、系統工程(純水系統、PCW系統、City Water系統、廢水處理系統、氣體供應系統、化學供應系統)、機械工程(潔凈系統、Chiller & Hot water系統、廢氣處理 / 排氣系統)、裝機專案(給水 / 排水配管、氣體 / 排氣配管、真空配管、電力配線、廠商管理系統)、廠區服務(一般水電維護、土木及裝潢、景觀園藝、TPM預防保養)。今就其廢氣處理及排氣系統加以說明如下。
在半導體生產環境中，不同的設備機臺會產生不盡相同的化學性廢氣，雖然部份設備機臺本身有前廢氣處理設備，仍然不能避免處理設備失效之問題。另外晶片生產制程中也使用了大量的易燃溶劑與化學品，因此必須將它們做有效的分類與處理，以避免在管路中因二度化學反應產生危險，并降低廢氣排放及符合環境法規要求， 因此廢氣排放處理系統在此就扮演著很重要的角色。
廢氣排放處理系統(Air Abatement System，簡稱AAS)，其排氣管路可區分為General Exhaust System (GEX)、Scrubber Exhaust System (SEX)、Ammonia Exhaust System (AEX)、VOC Exhaust System (VEX)。

General Exhaust System (GEX)
生產過程機臺本身會產生熱源、particle與無害氣體，但考慮無塵室空調與過濾裝置負荷，及生產環境溫度的舒適性，因此將此廢氣以一般風車抽取排放至大氣環境，不需做任何處理(圖一)。
#F#圖一：General Exhaust System

Scrubber Exhaust System (SEX)
在晶片生產過程中，制程設備會使用大量的化學品，其大都涵蓋大量酸性與少量堿性等腐蝕性化質。如果未將此類化學性廢氣加以處理而排放，則勢必會嚴重沖擊我們的環境。
SEX設備主要是一濕式洗滌塔(Scrubber)，利用堿性(NaOH)循環水沖洗制程排放的酸性廢氣，并藉由酸堿中和原理將排氣中性化而不具腐蝕性，而排氣的化學物質經沖洗沉降并定量排放至廢水處理場做進一步處理(圖二)。
#F#圖二：Scrubber Exhaust System

Ammonia Exhaust System (AEX)
AEX (圖三)最主要是處理制程設備所產生的Ammonia (阿摩尼亞，NH3)。處理設備本身主要也是一濕式洗滌塔(Scrubber)，利用酸性(H2SO4)循還水沖洗制程排放中所含有的Ammonia廢氣，廢氣中的化學物質NH3經沖洗而溶於循還水中，廢氣再進入SEX處理，其洗滌塔廢水定量排放至廢水處理場做進一步處理。
#F#圖三：Ammonia Exhaust System

而Ammonia 的廢氣不直接進入SEX處理，乃是Ammonia (NH3)的廢氣與SEX內的氯與氟根離子(CL-, F-) 產生反應，生成白色的氯化氨或氟化氨(NH4CL, NH4F)粉塵結晶，會造成管路阻塞，環境污染與煙囪排放不透光率不符環保法規要求。

VOC Exhaust System (VEX)
Volatile organic compounds (VOCs)其特徵和酸堿不同，且較難處理。若未處理直接排至大氣環境，會有污染空氣，造成空氣品質下降之風險。一般來說VEX處理系統主要分為兩大部份：(1) ACT 690 Condenser (冷凝器) only for partial equipment；(2)沸石轉輪(Zeolite roller)。
ACT 690 Condenser
主要的功能在於先處理高融點的VOC，以利後段沸石轉輪處理其它低融點之VOC(圖四)。ACT 690 Condenser組成包括：
● Filter：過濾來自設備排放的雜質；
● Cooler：一種利用熱交換濃縮冷凝氣態有機化合物的設備，是以5蚓冰水將部份高融點氣態 VOC冷凝下來便於收集處理；
● Exchanger：此熱交換器是一節能裝置，將冷凝後的低溫廢氣再與入口的高溫廢氣先做熱交換後，才到cooler再冷凝；
● Carbon absorber：ACT 690濃縮後的氣態VOC本體有很濃的臭味，因此設有活性碳吸附器carbon absorber去除部份臭味。
#f#圖四：ACT 690 Condenser